Karakterizaĵoj:

1) La nitrida rapido estas pli rapida, la nitrida ciklo povas esti konvene mallongigita, kaj la jona nitrida tempo povas esti mallongigita al 1/3-2/3 de la gasa nitrida tempo.

2) La fragileco de la nitrida tavolo estas malgranda, kaj la blanka tavolo formita sur la surfaco de plasmonitridado estas tre maldika, aŭ eĉ neniu. Krome, la deformiĝo kaŭzita de la nitrida tavolo estas malgranda, kio estas aparte taŭga por precizaj partoj kun kompleksaj formoj.

3) Energio kaj amoniako-konsumo povas esti ŝparitaj. Elektro-energio-konsumo estas 1/2-1/5 de gasnitridado kaj amoniako-konsumo estas 1/5-1/20 de gasnitridado.

4) Estas facile realigi lokan nitridadon, kondiĉe ke la parto, kiu ne bezonas nitridadon, ne produktas brilon, la ne-nitridada parto estas facile protektinda, kaj la brilo povas esti protektita per mekanika ŝirmado kaj fera plato.

5) Jona bombado povas purigi la surfacon kaj aŭtomate forigi la pasivigan filmon. Neoksidebla ŝtalo kaj varmorezista ŝtalo povas esti nitridigitaj rekte sen antaŭa forigo de la pasiviga filmo.

6) La strukturo de la kunmetita tavolo, la dikeco kaj strukturo de la enfiltriĝa tavolo povas esti kontrolitaj.

7) La gamo de traktado-temperaturo estas larĝa, kaj certa dikeco de nitrida tavolo povas esti atingita eĉ sub 350 °C.

8) La laborkondiĉoj pliboniĝis. Senpolua kaj plasma nitrida traktado estas efektivigata sub tre malalta premo kun tre malmulte da ellasgasoj. La gasfonto estas nitrogeno, hidrogeno kaj amoniako, kaj baze neniuj damaĝaj substancoj estas produktitaj.

9) Ĝi aplikeblas al ĉiaj materialoj, inkluzive de neoksidebla ŝtalo, varmorezista ŝtalo kun alta nitrida temperaturo, ilŝtalo kaj precizaj partoj kun malalta nitrida temperaturo, dum malalttemperatura nitridado estas sufiĉe malfacila por gasa nitridado.