Kiel pri la velda efiko de vakua lotuma forno

Kiel pri la velda efiko de vakua lotuma forno

La lutuma metodo en vakua forno estas relative nova lutuma metodo sen fluaĵo sub vakuaj kondiĉoj. Ĉar la lutumado okazas en vakua medio, la malutila efiko de aero sur la laborpecon povas esti efike forigita, do la lutumado povas esti sukcese efektivigita sen apliko de fluaĵo. Ĝi estas ĉefe uzata por lutumado de metaloj kaj alojoj, kiujn malfacilas lutumi, kiel ekzemple aluminio-alojoj, titanio-alojoj, alttemperaturaj alojoj, obstinaj alojoj kaj ceramikaĵoj. La lutumita junto estas brila kaj kompakta, kun bonaj mekanikaj ecoj kaj korodrezisto. Vakua lutumada ekipaĵo ĝenerale ne estas uzata por pingloveldado de karbonŝtalo kaj malalt-aloja ŝtalo.

La lutuma ekipaĵo en vakua forno konsistas ĉefe el vakua lutuma forno kaj vakua sistemo. Ekzistas du tipoj de vakuaj lutumaj fornoj: varma kameno kaj malvarma kameno. La du tipoj de fornoj povas esti hejtitaj per tergaso aŭ elektra hejtado, kaj povas esti konstruitaj en flanke muntitan fornon, sube muntitan fornon aŭ supre muntitan fornon (tipo Kang). La vakua sistemo povas esti uzata ĝenerale.

Vakua sistemo ĉefe inkluzivas vakuan unuon, vakuan tubon, vakuan valvon, ktp. La vakua unuo kutime konsistas el rotacia mekanika pumpilo kaj olea difuza pumpilo. La mekanika pumpilo sole povas atingi nur malpli ol 1,35 × vakuan gradon de 10⁻¹ Pa. Por atingi altan vakuon, oni devas uzi samtempe la olea difuzan pumpilon. Tiam, ĝi povas atingi 1,35 × vakuan gradon de 10⁻¹ Pa. La gaspremo en la sistemo estas mezurata per vakua mezurilo.

Lutado en vakua forno estas la lutado en la forno aŭ luta ĉambro kun ekstraktita aero. Ĝi estas aparte taŭga por lutado de grandaj kaj kontinuaj juntoj, kaj ankaŭ taŭgas por kunligi iujn specialajn metalojn, inkluzive de titanio, zirkonio, niobio, molibdeno kaj tantalo. Ĝi havas vastan gamon da aplikoj. Tamen, vakua lutado ankaŭ havas la jenajn malavantaĝojn:

① La metalo facile vaporiĝas sub vakuo, do ne taŭgas uzi vakuan luton por la bazmetalo kaj plenmetalo de volatilaj elementoj. Se necese uzi ĝin, oni devas adopti respondajn kompleksajn procezajn rimedojn.

② Vakua lutado estas sentema al la surfaca malglateco, muntokvalito kaj kongrua toleremo de lutumitaj partoj, kaj postulas altan teorian nivelon de labormedio kaj funkciigistoj.

③ Vakua ekipaĵo estas kompleksa, kun granda unufoja investo kaj altaj bontenadkostoj.

Do, kiel efektivigi la lutoludan procezon en vakua forno? Kiam lutado estas farata en la vakua forno, la veldota peceto devas esti ŝarĝita en la fornon (aŭ en la lutoludan ujon), la fornopordo devas esti fermita (aŭ la kovrilo de la lutolujo devas esti fermita), kaj antaŭvakuumita antaŭ varmigo. Unue startigu la mekanikan pumpilon, turnu la stiran valvon post kiam la vakuogrado atingas 1.35pa, fermu la rektan vojon inter la mekanika pumpilo kaj la lutoluda forno, konektu la tubon kun la lutoluda forno tra la difuza pumpilo, fidu la mekanikan pumpilon kaj la difuzan pumpilon por funkcii ene de limigita tempo, pumpu la lutoludan fornon ĝis la bezonata vakuogrado, kaj poste startigu la varmigadon.

Dum la tuta procezo de temperaturpliiĝo kaj varmigo, la vakua unuo devas daŭre funkcii por konservi la vakuan gradon en la forno, kompensi la aerelfluadon ĉe diversaj interfacoj de la vakua sistemo kaj la lutuma forno, liberigon de gaso kaj vaporo adsorbitaj sur la forna muro, fiksaĵo kaj veldaĵo, vaporiĝon de metalo kaj oksido, ktp., por redukti la veran aeron. Ekzistas du tipoj de vakua lutuma lutado: altvakua lutuma lutado kaj parta vakua (meza vakua) lutuma lutado. Altvakua lutuma lutado estas tre taŭga por lutumi la bazmetalon, kies oksido malfacile malkomponiĝas (kiel ekzemple nikela superalojo). Parta vakua lutuma lutado estas uzata por okazoj, kie la bazmetalo aŭ plenigmetalo vaporiĝas sub la lutuma temperaturo kaj altaj vakuaj kondiĉoj.

Kiam specialaj antaŭzorgoj devas esti prenitaj por certigi altan purecon, vakua purigmetodo devas esti uzata antaŭ seka hidrogena lutado. Simile, uzi sekan hidrogenan aŭ inertan gason purigmetodon antaŭ vakuado helpos atingi pli bonajn rezultojn en altvakua lutado.